As for cross-sectioned image presen

As for cross-sectioned image presented in figure 5 (g-i), in addition to less compact coating structure of SEHi and SEH compared to SE, which probably related to the similar reason mentioned above, a more powerful discharge process might also lead to the increase of film growth rate, where the thickness of SEHi and SEH are both higher than SE in figure 6.

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至於圖5（gi）中顯示的橫截面圖像，除了SEHi和SEH的塗層結構比SE緊湊以外，這可能與上述相似的原因有關，更強大的放電過程也可能導致其增加圖6中SEHi和SEH的厚度均高於SE的情況。

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至於圖5（g-i）中顯示的橫截面圖像，除了SEHi和SEH的塗層結構與SE相比，可能與上述類似原因相關，更強大的放電過程也可能導致薄膜生長率的增加，其中SEHi和SEH的厚度都高於圖6中的SE。

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對於圖5（g-i）所示的橫截面影像，除了SEHi和SEH的塗層結構比SE更不緻密之外，這可能與上述類似的原因有關，更强大的放電過程也可能導致薄膜生長速率的新增，其中SEHi和SEH的厚度均高於圖6中的SE。

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