This feature is ascribed to that the higher voltage in the range of br的繁体中文翻译

This feature is ascribed to that th

This feature is ascribed to that the higher voltage in the range of breakdown voltage and critical voltage makes the entire plasma discharge process more intense, resulting in more cavities and ridges on the surface of SEHi and SEH samples.
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該特徵歸因於在擊穿電壓和臨界電壓範圍內的較高電壓使整個等離子體放電過程更加激烈,從而導致SEHi和SEH樣品表面上出現更多的空洞和隆起。
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此功能歸因於分解電壓和臨界電壓範圍內的較高電壓使整個等離子放電過程更加激烈,導致 SEHi 和 SEH 樣品表面的空腔和山脊增加。
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這是由於擊穿電壓和臨界電壓範圍內的電壓越高,整個放電過程越强烈,導致SEHi和SEH樣品表面產生更多的空穴和脊。
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