According to several research analy

According to several research analyses, the conductivity and transparency of ITO thin films are mainly determined by ITO target and sputtering conditions, where the target quality is the most important factor. To obtain high performance ITO films, it is necessary to prepare high-quality ITO targets. Recent researches on the influence of target quality on ITO thin films have been mainly based on aspects such as target density [5,6], grain size [7], conductivity [8], element content [9,10], target secondary phase [11], and element distribution [12]. Meiet al. focused on the effect of secondary phase shift, element distribution, and tin oxide solid solution in In2O3 of the ITO target on the properties of ITO films [11-13]. Although several literatures have studied the influence of an ITO target on the properties of ITO thin films, there is still a lack of systematic and in-depth research on the influence of target crystallinity on the properties of ITO thin films.

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根据几项研究分析，ITO薄膜的导电性和透明性主要取决于ITO靶和溅射条件，其中靶质量是最重要的因素。为了获得高性能的ITO膜，必须准备高质量的ITO靶。目标质量对ITO薄膜影响的最新研究主要基于目标密度[5,6]，晶粒尺寸[7]，电导率[8]，元素含量[9,10]，目标次级相等方面[11]和元素分布[12]。梅<br>等。重点研究了ITO靶的In2O3中的二次相移，元素分布和氧化锡固溶体对ITO薄膜性能的影响[11-13]。尽管有几篇文献研究了ITO靶对ITO薄膜性能的影响，但仍缺乏系统和深入的研究来研究靶结晶度对ITO薄膜性能的影响。

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根据多项研究分析，ITO薄膜的导电性和透明度主要是由ITO目标和溅射条件决定的，其中目标质量是最重要的因素。为了获得高性能的 ITO 薄膜，必须准备高质量的 ITO 目标。最近对目标质量对ITO薄膜的影响的研究主要基于目标密度[5，6]、颗粒大小[7]、电导率[8]、元素含量[9，10]、目标二级[11]和元素分布[12]等。美<br>等人着重讨论了ITO目标In2O3中二次相移、元件分布和锡氧化物固体溶液对ITO薄膜特性的影响[11-13]。虽然一些文献研究了ITO目标对ITO薄膜性质的影响，但仍然缺乏对目标晶体性对ITO薄膜特性的影响的系统而深入的研究。

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根据研究分析，ITO薄膜的导电性和透明性主要取决于ITO靶材和溅射条件，靶材质量是决定ITO薄膜导电性和透明性的最重要因素。为了获得高性能的ITO薄膜，必须制备高质量的ITO靶材。最近对靶质量对ITO薄膜影响的研究主要集中在靶密度[5,6]、晶粒尺寸[7]、电导率[8]、元素含量[9,10]、靶二相[11]和元素分布[12]等方面。教育与工业应用数学组织<br>等。重点研究了ITO靶的二次相移、元素分布和In2O3中的氧化锡固溶体对ITO薄膜性能的影响[11-13]。虽然已有文献研究了ITO靶材对ITO薄膜性能的影响，但对于靶材结晶度对ITO薄膜性能的影响还缺乏系统深入的研究。<br>

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